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China nähert sich der Eigenständigkeit in der 7nm-Chip-Produktion

Ein Nachrichtenbericht von China.org.cn zum Thema: China nähert sich der Eigenständigkeit in der 7nm-Chip-Produktion.

China hat kürzlich neue Durchbrüche im Bereich der 7-nm-Chip-Herstellung erzielt, indem es Angaben wichtiger Branchenakteure zufolge Werkzeuge und Know-how für mehrere Segmente des Herstellungsprozesses entwickelt hat. Dieser Erfolg ist Teil der Gesamtbemühungen, die Abhängigkeit von ausländischen Ausrüstungs- und Materialanbietern zu reduzieren.

Im vergangenen Monat gab Chinas Anbieter von Chip-Anpassungslösungen, „Innosilicon“, bekannt, dass er die Tests eines Prototyp-Chips, der auf dem FinFET N+1-Prozess der Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC) basiert, abgeschlossen habe. Diese Errungenschaft markiert einen neuen Schritt vorwärts in Chinas heimischer Chipentwicklung.

Inmitten der von den USA auferlegten Handelsbeschränkungen soll der SMIC-Foundry-Knotenpunkt der neuen Generation mit dem 7nm-Prozess der Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TSMC), der weltgrößten spezialisierten unabhängigen Halbleiter-Foundry [Bezeichnung für Unternehmen, die in ihren Halbleiterwerken Produkte für andere Halbleiterunternehmen herstellt, vgl. Fertigungsbetrieb], vergleichbar sein.

Als Chinas größte Chip-Foundry wird SMIC seinen N+1 7nm-Knoten einführen, der eine erhebliche Verbesserung gegenüber seinem derzeitigen 14 nm-Knoten darstellt. Nach Angaben des Unternehmens weist er eine Leistungssteigerung von 20 Prozent, eine Reduzierung des Stromverbrauchs um 57 Prozent, eine verringerte Logikfläche von 63 Prozent und eine Reduzierung der SoC-Fläche (System on a Chip) um 55 Prozent auf.

Darüber hinaus könnte dieser Fortschritt SMIC in die Lage versetzen, seine Abhängigkeit von den fortschrittlichen EUV-Lithographiemaschinen (Extreme Ultraviolet (EUV)) des niederländischen Mikrochip-Maschinenherstellers ASML zu überwinden, so Liang Mengsong, Co-CEO von SMIC. ASML unterliegt den Exportkontrollen der USA, da seine Produkte amerikanische Technologie enthalten.

Gleichzeitig arbeitet China hartnäckig an der Entwicklung eines eigenen Lithographiesystems.

Das Suzhou-Institut für Nanotechnologie und Nanobionik der Chinesischen Akademie der Wissenschaften (Sinano) hat kürzlich zusammen mit dem Nationalen Zentrum für Nanowissenschaften und -technologie einen Durchbruch bei einer neuen Art von 5nm-Laserlithographietechnologie bekannt gegeben. Experten glauben, dass damit die Grundlage für die Forschung an einer selbst entwickelten fortschrittlichen Lithographiemaschine gelegt werden könnte.

Die neue Technologie hat die traditionelle Beschränkung des Laser-Direct-Writing (LDW) mit seiner Fähigkeit zur Verarbeitung auf Nanoebene durchbrochen. Neben der hohen Präzision zeigt die Technologie auch Potenzial für die Massenproduktion.

Nach den Forschungsergebnissen, die in Nano Letters, einer monatlich erscheinenden, von Fachleuten begutachteten („Peer Review“) wissenschaftlichen Zeitschrift, veröffentlicht wurden, weist die neue LDW-Technologie „eine reizvolle Fähigkeit zur Kontrolle an der Bohrstelle und Massenproduktion von 500.000 Nanogap-Elektroden pro Stunde auf“ und bricht damit den Kompromiss zwischen Auflösung und Durchsatz bei der Verwendung von Nanofabrikationstechniken.

Auf der kürzlich stattgefundenen China International Import Expo (CIIE) in Shanghai präsentierte ASML, der Weltmarktführer für Lithographiemaschinen, seine Lithographiemaschinen für den Tief-Ultraviolett-Bereich (DUV) und signalisierte damit eindeutig, dass es sowohl fähig als auch bereit dazu ist, die Ausrüstung nach China zu exportieren.

Zuvor hatte Roger Dassen, Finanzvorstand von ASML, bereits erklärt, dass das Unternehmen DUV-Lithographiemaschinen ohne US-Lizenz nach China exportieren könne. Die Technologie kann typischerweise Chips bis hinunter zum 7-nm-Knoten herstellen.

Auf der Material-Seite gab Nata Opto-electronic Materials in der ostchinesischen Provinz Jiangsu bekannt, dass es die erste ArF-Fotolack (Photoresist)-Fertigungslinie Chinas eingerichtet habe, die zur Übertragung von elektronischen Schaltungsmustern auf Siliziumkristalle im 7-nm-Chip-Herstellungsprozess verwendet werden soll. Bisher konnten in China hergestellte Fotolack-Materialien nur bei der Herstellung von Chips mit Standards von 436 nm und 365 nm eingesetzt werden.

Als weltgrößter Halbleitermarkt hat China viel Geld für Halbleiter-Investitionen, Akquisitionen und die Rekrutierung von Talenten verwendet, um die Industrie zu stärken, indem es die Chipfertigung auf Weltklasse-Niveau auf den eigenen Markt bringt.

Ein Bericht von Goldman Sachs vom 2. Juli prognostizierte, dass China bis 2023 in der Lage sein könnte, 7-nm-Chips herzustellen.

Thomas Friedman, ein Kolumnist der New York Times, sagte während eines Online-Forums am 11. November, dass China gemäß dem neuesten Fünfjahresplan versuche, eine komplette Mikrochip-Lieferkette von einem Ende bis zum anderen aufzubauen und nicht länger von den US-Technologien abhängig sein werde.

Foto – https://mma.prnewswire.com/media/1343813/image.jpg

Pressekontakt:

Xiaoqing Yan
Telefonnummer: 86 10-88828304

Weiteres Material: http://presseportal.de/pm/137002/4777263
OTS: China.org.cn

Original-Content von: China.org.cn, übermittelt durch news aktuell

Posted by on 30. November 2020. Filed under Computer & Technik,New Media & Software. You can follow any responses to this entry through the RSS 2.0. You can leave a response or trackback to this entry

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